東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)在母公司三菱電機的研究所協(xié)助下，開發(fā)出了通過將原料制成霧狀來形成薄膜的霧化CVD（化學(xué)氣相沉積）裝置“TMmist”，使得太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率最大提高了1成。其將瞄準(zhǔn)太陽能電池透明導(dǎo)電膜的成膜等用途，力爭2014年度獲得約10億日元、2015年度獲得約20億日元的訂單。
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TMmist不僅能減少采用非真空工藝時較大的設(shè)置面積及初期投資，而且還可憑借無等離子體損傷這一點來提高基材薄膜的特性。其中，無等離子體損傷的良好效果得到了太陽能電池廠商的證實。有廠商報告稱，其用于CIGS（Cu-In-Ga-Se）型太陽能電池的透明導(dǎo)電膜時，“轉(zhuǎn)換效率最大提高了1成”。在良好的結(jié)果鼓舞下，已開始有太陽能廠商考慮導(dǎo)入試制機。
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東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)設(shè)想將霧化CVD裝置用于CIGS型太陽能電池的透明導(dǎo)電膜用途，此外還考慮開拓有機EL等用途。作為TMmist最初的應(yīng)用領(lǐng)域，東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)選擇的是今后市場有望增長的CIGS型太陽能電池的透明導(dǎo)電膜。而且今后該公司還將開拓其他用途，如顯示器等使用的透明導(dǎo)電膜，以及使用有機原料的有機EL等。